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RF—HFCVD生长高质量纳米金刚石薄膜
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O484.1

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浙江省自然科学基金 (批准号 5 960 3 0 )资助项目~~


HIGH QUALITY NANOCRYSTALLINE DIAMOND FILMS GROWN BY RF-HFCVD
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    摘要:

    采用射频等离子体增强的热丝化学气相沉积 (RF HFCVD)技术在石英玻璃衬底上制备了高质量的纳米金刚石薄膜 .研究了衬底温度、反应气压及射频功率对金刚石膜的结晶习性和光学性质的影响 ,其最佳值分别为70 0℃、2× 133Pa和 2 0 0W .在该条件下金刚石成核密度达 10 11cm-2 ,经 1h生长即获得连续薄膜 ,其平均晶粒尺寸为 2 5nm ,表面粗糙度仅为 5 5 ,在近红外区域 (80 0nm处 )的光透过率达 90 % .

    Abstract:

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    引证文献
引用本文

邱东江,吴惠桢,陈奶波,石成儒. RF—HFCVD生长高质量纳米金刚石薄膜[J].红外与毫米波学报,2002,21(3):167~170]. QIU Dong Jiang ) WU Hui Zhen ) CHEN Nai Bo ) SHI Cheng Ru ). HIGH QUALITY NANOCRYSTALLINE DIAMOND FILMS GROWN BY RF-HFCVD[J]. J. Infrared Millim. Waves,2002,21(3):167~170.]

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  • 最后修改日期:2001-10-26
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