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首页 > 过刊浏览>2000年第19卷第5期 >338-342
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模拟退火法在椭偏光谱数值反演中的应用
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O484.41 O484.5

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SIMULATED ANNEALING OPTIMIZATION ALGORITHM FOR INVERTING ELLIPSOMETRIC SPECTRA
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    将模拟退火（ＳＡ）法应用于椭偏光谱数值反演，以达到同时得到介质薄膜的厚度和光学常数谱，并对ＳＡ算法作了说明和改进，作为应用实例，计算了Ｓｉ衬底上的ＳｉＯ２薄膜和Ｂａ０．９Ｓｒ０．１ＴｉＯ３（ＢＳＴ）铁电薄膜的膜厚及光学常数谱，同时讨论了椭扁参数φ和△随膜厚及折射率变化的灵敏度。

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引用本文

阳生红 余招贤.模拟退火法在椭偏光谱数值反演中的应用[J].红外与毫米波学报,2000,19(5):338~342]. YANG Sheng-Hong, YU Zhao-Xian, LI Hui-Qiu, ZHANG Yue-Li, MO Dang. SIMULATED ANNEALING OPTIMIZATION ALGORITHM FOR INVERTING ELLIPSOMETRIC SPECTRA[J]. J. Infrared Millim. Waves,2000,19(5):338~342.]

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