分析了SiO_2+PSG+SiO_2三层钝化增透膜的生长工艺,对实验结果进行了热力学理论探讨;给出了高频电容-电压和光学透过特性曲线,并与SiO_2膜做了比较;对系统的限制因素进行了细致的研究.
刘琳.3～5μmPVInSb测器器的PSG钝化技术[J].红外与毫米波学报,1989,8(4):].[J]. J. Infrared Millim. Waves,1989,8(4).]
