辉光放电方法制备的a-SiN_x:H薄膜光致发光研究
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    研究了a-SiNx:H薄膜在15K左右低温下的光致发光特性,测得发光峰值位置随样品中氮含量的增加而向高能方向移动。部分晶化样品的发光峰值从1.47eV移到1.25eV。从PL强度的温度效应,可得到激活能ε和表征带尾宽度的特征温度T_(?)o T>80K和

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引用本文

宋亦周,杨明,姜文娣,方容川.辉光放电方法制备的a-SiN_x:H薄膜光致发光研究[J].红外与毫米波学报,1987,6(3):].[J]. J. Infrared Millim. Waves,1987,6(3).]

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